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Bewertung neuartiger metallorganischer Precursoren für die chemische Gasphasenabscheidung von Kupfer für Metallisierungssysteme der Mikroelektronik 18 Der Erzmagier Sheol will dieDiplomarbeit aus dem Jahr 2004 im Fachbereich Elektrotechnik, Note: 1,3, Technische Universitt Chemnitz (Fakultt fr Elektrotechnik und Informationstechnik, Zentrum fr Mikrotechnologien), Sprache: Deutsch, Abstract: Vor dem Hintergrund der in der Mikroelektronik Fertigung heute verbreiteten Kupfertechnologie werden in der vorliegenden Arbeit drei neuartige metallorganische Verbindungen, nmlich phosphitstabilisierte Kupfer(I) Trifluoracetat Komplexe